碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法 (GB/T 31351-2014) 国家标准《碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：北京天科合达蓝光半导体有限公司、中国科学院物理研究所。
起草人：陈小龙 、郑红军 、张玮 、郭钰 、刘振洲 。
此标准规定了4H晶型和6H晶型碳化硅单晶抛光片的微管密度的无损检测方法。此标准适用于4H晶型和6H晶型碳化硅单晶抛光片经单面抛光或双面抛光后、微管的径向尺寸在一微米至几十微米范围内的微管密度的测量。