硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法 (GB/T 38976-2020) 国家标准《硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、北京聚睿众邦科技有限公司、厦门银固美能源科技有限公司。
起草人：王永涛 、孙燕 、徐新华 、胡金枝 、任丹雅 、赵志婷 、蔡丽艳 、杨素心 、陆敏 、林兴乐 。
此标准规定了采用惰性气体熔融及红外技术测试硅材料中氧含量的方法。
此标准适用于不同导电类型、不同电阻率范围的硅单晶、多晶硅中氧含量的测试，测试范围为2.5X1015cm-3(0.05ppma)~2.5X1018cm-3(50ppma)
注：硅材料中的氧含量以每立方厘米中的原子数计。