当前位置:首页 > 标准 > 团体标准 > T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

标准号
T/CNIA 0061-2020
下载格式
PDF
发布日期
2020-05-27
实施日期
2020-08-01
标准类别
团体标准
免费下载
简介

硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (T/CNIA 0061-2020) 团体名称为中国有色金属工业协会

主要起草人:严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙

起草单位:洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业(青海)股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司

内容简要 本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。本标准适用于…

声明:资源收集自网络无法详细核验或存在错误,仅为个人学习参考使用,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

不能下载?报告错误