硅片表面光泽度的测试方法 (GB/T 42789-2023) 国家标准《硅片表面光泽度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技（衢州）有限公司。
起草人：梁兴勃 、李琴 、张海英 、林松青 、潘金平 、李素青 、张雪囡 、由佰玲 、边永智 、庄智慧 、沈辉辉 、焦二强 、韩云霄 、徐志群 、付明全 、詹玉峰 、王可胜 。
此标准描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。
此标准适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有图形的硅片的测试。