表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染 (GB/T 40110-2021) 国家标准《表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：中国计量科学研究院、华南理工大学。
起草人：王海 、张艾蕊 、王梅玲 、任丹华 、徐昕荣 、范燕 。
此标准描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
此标准适用于以下情形：
——原子序数从16(S)到92(U)的元素；
——原子表面密度介于1X1010atoms/cm2～1X1014atoms/cm2之间的污染元素；
——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5X108atoms/cm2~5X1012atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。