氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法 (GB/T 41751-2022) 国家标准《氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、中国电子科技集团公司第四十六研究所、哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司、厦门柯誉尔科技有限公司、山西华晶恒基新材料有限公司、福建兆元光电有限公司。
起草人：邱永鑫 、徐科 、王建峰 、任国强 、李腾坤 、左洪波 、郑树楠 、刘立娜 、杨鑫宏 、邝光宁 、丁崇灯 、陈友勇 。
此标准规定了利用高分辨X射线衍射仪测试氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径的方法。
此标准适用于化学气相沉积及其他方法制备的氮化稼单晶衬底片晶面曲率半径的测试，氮化榢外延片晶面曲率半径的测试可参照此标准进行。