集成电路制造设备术语 (GB/T 40577-2021) 国家标准《集成电路制造设备术语》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：中国电子技术标准化研究院、浙江晶盛机电股份有限公司、中电科电子装备集团有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、中微半导体设备（上海）股份有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司、东莞市中镓半导体科技有限公司、江苏卓远半导体有限公司。
起草人：张军华 、冯亚彬 、曹可慰 、曹建伟 、裴会川 、朱亮 、周哲 、武小娟 、杜若昕 、唐彩红 、丁晓民 、傅林坚 、魏唯 、田涛 、刘英斌 、李国平 、王宏智 。
此标准规定了集成电路（IC）制造设备的基本和常用术语，包括基础术语，晶体生长加工设备、掩模制造设备、光刻与刻蚀设备、掺杂设备、薄膜淀积设备、清洗设备、封装设备、检测设备的术语及公用部件术语。
此标准适用于集成电路制造设备的设计开发、生产和应用，也适用于集成电路制造设备的科研、教学和出版工作。