硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法 (GB/T 14144-2009) 国家标准《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：峨嵋半导体材料厂。
起草人：杨旭 、江莉 。
u3000u3000此标准采用红外光谱法测定硅晶体中间隙氧含量径向的变化。此标准需要用到无氧参比样品和一套经过认证的用于校准设备的标准样品。 u3000u3000此标准适用于室温电阻率大于0.1Ω·cm的n型硅单晶和室温电阻率大于0.5Ω·cm的p型硅单晶中间隙氧含量的测量。