III族氮化物半导体材料中位错成像的测试 透射电子显微镜法 (GB/T 44558-2024) 国家标准《III族氮化物半导体材料中位错成像的测试 透射电子显微镜法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。
起草单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、江苏第三代半导体研究院有限公司、苏州科技大学、北京大学、国家纳米科学中心、北京大学东莞光电研究院、东莞市中镓半导体科技有限公司、ＴＣＬ环鑫半导体（天津）有限公司、苏州大学、山东浪潮华光光电子股份有限公司、北京国基科航第三代半导体检测技术有限公司。
起草人：曾雄辉 、董晓鸣 、苏旭军 、牛牧童 、王建峰 、徐科 、王晓丹 、徐军 、郭延军 、陈家凡 、王新强 、颜建锋 、敖松泉 、唐明华 、闫宝华 、李艳明 。
该标准描述了用透射电子显微镜测试Ⅲ族氮化物半导体材料中位错成像的方法。该标准适用于六方晶系Ⅲ族氮化物半导体的薄膜或体单晶中位错成像的测试。