锗单晶位错密度的测试方法 (GB/T 5252-2020) 国家标准《锗单晶位错密度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：有研光电新材料有限责任公司、北京国晶辉红外光学科技有限公司、国合通用测试评价认证股份公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、中国电子科技集团公司第四十六研究所、广东先导稀材股份有限公司、中锗科技有限公司、义乌力迈新材料有限公司。
起草人：张路 、冯德伸 、马会超 、普世坤 、姚康 、刘新军 、郭荣贵 、向清华 、韦圣林 、黄洪伟文 。
此标准规定了锗单晶位错密度的测试方法。
此标准适用于｛111}、｛100｝和｛013｝面锗单晶位错密度的测试，测试范围为0cm-2~100000cm-2。