电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (GB/T 37049-2018) 国家标准《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司。
起草人：鲁文锋 、刘晓霞 、秦榕 、孙燕 、赵而敬 、王桃霞 、赵玉 、王忠慧 、柳德发 、张园园 、银波 、邱艳梅 、刘强 。
此标准规定了电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。
此标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。