磁控溅射用钌靶 (GB/T 34649-2017) 国家标准《磁控溅射用钌靶》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口上报，TC243SC5（全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。
起草单位：有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。
起草人：罗俊锋 、丁照崇 、李勇军 、向磊 、万小勇 、刘书芹 、熊晓东 、王庄 、贺昕 、滕海涛 、高岩 。
此标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。
此标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶（以下简称钌靶）。