表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序 (GB/T 34174-2017) 国家标准《表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序 》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：中国科学院化学研究所、中国石化石油化工科学研究院、国家纳米科学中心。
起草人：邱丽美 、刘芬 、徐鹏 、刁玉霞 、赵志娟 、章小余 。
对表面分析用的工作参考物质(WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，此标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50mm的抛光(或类似磨面)基片(也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素(也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为1016atoms/cm2至1013atoms/cm2(即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质（SeRM）硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。此标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。