表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定 (GB/T 30701-2014) 国家标准《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：中国计量科学研究院。
起草人：王海 、宋小平 、王梅玲 、高思田 、冯流星 。
此标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。 ‖ 注：可采用石墨炉原子吸收光谱法或电感耦合等离子体质谱法代替全反射X射线荧光光谱法来测定所收集的元素。 此标准适用于原子表面密度介于6×109 atoms/cm2～5×1011 atoms/cm2范围的铁和/或镍。