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GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法

标准号
GB/T 6616-1995
下载格式
PDF
发布日期
1995-04-18
实施日期
1995-12-01
标准类别
国家标准
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简介

半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法 (GB/T 6616-1995) 国家标准《半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。已被标准 GB/T 6616-2009(全部代替)

起草单位:上海有色金属研究所。

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