半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法 (GB/T 6616-1995) 国家标准《半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。已被标准 GB/T 6616-2009(全部代替)
起草单位:上海有色金属研究所。
半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法 (GB/T 6616-1995) 国家标准《半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。已被标准 GB/T 6616-2009(全部代替)
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