重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法 (GB/T 14847-1993) 国家标准《重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。已被标准 GB/T 14847-2010（全部代替）
起草单位：机电部四十六所。
此标准规定了重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法。此标准适用于衬底室温电阻率小于0.02Ω·cm和外延层室温电阻率大于0.1Ω·cm且外延层厚度大于2μm的硅外延层厚度的测量。