锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法 (GB/T 11297.6-1989) 国家标准《锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位:电子十一所。
本方法采用硝酸-氢氟酸腐蚀剂腐蚀,适用于锑化铟原始晶片(111)铟面a位错的显示和测定。测量面偏离(111)面应不大于3°。
锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法 (GB/T 11297.6-1989) 国家标准《锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位:电子十一所。
本方法采用硝酸-氢氟酸腐蚀剂腐蚀,适用于锑化铟原始晶片(111)铟面a位错的显示和测定。测量面偏离(111)面应不大于3°。
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