基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印技术要求 (T/CAB 0110-2021) 团体名称为中国产学研合作促进会
主要起草人：黄洋洋、袁晨、刘治生、朱先义、李春阳、庄孝磊、高芸、胡文喜、胡祖元、吕伟、李静、王可、鲁琴、钟雪春、陈玉、叶志成、李慧敏 、丁雪佳、张云、张保平。
起草单位：上海顺灏新材料科技股份有限公司、河北智生环保科技有限公司、湖北宜美特全息科技有限公司、上海天臣微纳米科技股份有限公司、珠海中丰田光电科技（珠海）有限公司、苏州印象镭射科技有限公司、深圳劲嘉集团股份有限公司、浙江美浓世纪集团有限公司、武汉华工图像技术开发有限公司、广东鑫瑞新材料科技有限公司 、重庆市涪陵太极印务有限公司、厦门市为纳光电有限公司、绍兴虎彩激光材料科技有限公司、北京化工大学、中柔凹印技术服务（北京）中心。
范围：本文件规定了一种可重复使用的含有微纳结构的卷状模版的制作技术要求及基于卷状模版的微纳结构材料的转印生产技术要求。本文件适用于环保型微纳结构材料的生产及应用。
内容简要 具体包括可重复使用的含有微纳结构的卷状模版的制作技术要求及基于卷状模版的微纳结构材料的转印生产技术要求。