当前位置:首页 > 标准 > 行业标准 > YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

标准号
YS/T 719-2009
下载格式
PDF
发布日期
2009-12-04
实施日期
2010-06-01
标准类别
行业标准
免费下载
简介

平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 (YS/T 719-2009) 主管部门为工业和信息化部。

起草单位:利达光电股份有限公司

起草人:李智超、杨太礼 等

声明:资源收集自网络无法详细核验或存在错误,仅为个人学习参考使用,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

不能下载?报告错误