金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 (GB/T 37211.3-2022) 国家标准《金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：安徽光智科技有限公司、云南驰宏锌锗股份有限公司、国标（北京）检验认证有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、东方电气（乐山）峨半高纯材料有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、广东先导稀材股份有限公司、广东飞成新材料有限公司。
起草人：朱赞芳 、谭秀珍 、廖吉伟 、刘红 、吴王昌 、黎亚文 、李瑶 、刘英波 、李正美 、崔丁方 、李江霖 、段春芳 。
此标准规定了辉光放电质谱法测定金属锗中痕量杂质元素含量的方法。
此标准适用于金属锗中痕量杂质元素含量的测定，测定范围为0.001mg/kg ~ 2mg/kg。