用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程 (GB/T 35309-2017) 国家标准《用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：江苏中能硅业科技发展有限公司、新特能源股份有限公司、天津市环欧半导体材料技术有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、洛阳中硅高科技有限公司。
起草人：王桃霞 、刘晓霞 、耿全荣 、鲁文锋 、柳德发 、胡伟 、邱艳梅 、银波 、由佰玲 、秦榕 、严大洲 。
此标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主杂质浓度的方法。
此标准适用于尺寸为600m~3000m的颗粒状多晶硅，其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照此标准执行。