硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则 (GB/T 28274-2012) 国家标准《硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则》由TC336（全国微机电技术标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学。
起草人：张大成 、王玮 、刘伟 、杨芳 、姜森林 、崔波等 。
此标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。此标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。