化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法 (GB/T 26070-2010) 国家标准《化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：中国科学院半导体研究所。
起草人：陈涌海 、赵有文 、提刘旺 、王元立 。
1.1此标准规定了Ⅲ—Y族化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测试方法。1.2此标准适用于GaAs、InP(GaP、GaSb可参照进行)等化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测量。