硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法 (GB/T 25188-2010) 国家标准《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：中国科学院化学研究所、中国计量科学研究院。
起草人：刘芬 、王海 、赵良仲 、宋小平 、赵志娟 、邱丽美 。
u3000u3000此标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法，即X射线光电子能谱法（XPS）。此标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量；通常，此标准适用的氧化硅层厚度不大于6 nm。