硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法 (GB/T 24575-2009) 国家标准《硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。
起草人：何友琴 、马农农 、丁丽 。
此标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次离子质谱检测方法。此标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每种金属总量。此标准测试的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。 此标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。 此标准特别适用于位于晶片表面约5nm 深度内的表面金属沾污的测试。 此标准适用于面密度范围在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的测试。本方法的检测限取决于空白值或计数率极限,因仪器的不同而不同。