表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 (GB/T 20176-2006) 国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：清华大学电子工程系。
起草人：查良镇 、陈旭 、黄雁华 、王光普 、黄天斌 、刘林等 。
此标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3～1×10的20次方atoms/cm3。