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GB/T 17711-1999 钇钡铜氧(123相)超导薄膜临界温度Tc的直流电阻试验方法

标准号
GB/T 17711-1999
下载格式
PDF
发布日期
1999-03-13
实施日期
1999-10-01
标准类别
国家标准
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简介

钇钡铜氧(123相)超导薄膜临界温度Tc的直流电阻试验方法 (GB/T 17711-1999) 国家标准《钇钡铜氧(123相)超导薄膜临界温度Tc的直流电阻试验方法》由TC265(全国超导标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为中国科学院。

起草单位:中国科学院物理研究所超导国家重点实验室。

此标准规定了钇钡铜氧(123相)超导薄膜临界温度T、超导转变宽度△T、零电阻温度T的直流电阻试验方法。此标准适用于膜厚为(100~500)nm的钇钡铜氧(123相)超导薄膜的临界温度T、超导转变宽度△T,零电阻温度Tco的测定。此标准不适用于多相和半导体型的钇钡铜氧超导薄膜上述参数的测定。

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