碳化硅单晶位错密度的测试方法 (GB/T 41765-2022) 国家标准《碳化硅单晶位错密度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：北京天科合达半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司。
起草人：彭同华 、佘宗静 、娄艳芳 、王大军 、赵宁 、王波 、郭钰 、杨建 、李素青 。
此标准规定了碳化硅单晶位错密度的测试方法。
此标准适用于晶面偏离{0001}面、偏向{1120}方向0°~8°的碳化硅单晶位错密度的测试。