微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法 (GB/T 34893-2017) 国家标准《微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法》由TC336（全国微机电技术标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
起草单位：天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学、中国电子科技集团公司第十三研究所。
起草人：胡晓东 、郭彤 、于振毅 、李海斌 、程红兵 、裘安萍 、崔波 、朱悦 。
此标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。
此标准适用于表面反射率不低于4%，宽深比不低于1:10，且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。